職種別の選考対策

年次：

メーカー Japan Advanced Semiconductor Manufacturing

26年卒技術系

技術系

No.419476 本選考 / 個人面接の体験談

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選考ステップ合格の秘訣志望動機 ES・体験談

26年卒

個人面接

本選考

大学非公開 | 文系

2024年11月中旬

個人面接

2024年11月中旬

会場	オンライン
試験時間	1時間半
社員の人数	2人
学生の人数	1人
結果通知時期	1ヶ月以内に
結果通知方法	マイページ上で

面接官の特徴（役職・肩書き・入社年次など）

人事の方と自分が志望した職種のマネージャー

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会場到着から選考終了までの流れ

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質問内容

学生時代に頑張ったこと→私は、バンクーバーへの6か月の留学を通じて英語力・伝える力の向上に力を入れました。
当初、元々の引っ込み思案な性格とスピーキング力の欠如が起因して意見を求められても受け身になることが多く、自分にも自信が持てずにいました。この状況を打破するため、できるだけ現地の人と関わ...

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雰囲気

終始厳かな雰囲気だった。

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注意した点・感想

英語でのプレゼンは、3分以内にしっかり収まるように何度も練習した。学業に関する深堀や、プレゼン資料に対してかなり深堀されると聞いていたので、その辺は何が来ても答えられるよう心掛けた。また、英語でのコミュニケーションは、ハキハキ話すようにした。

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この先輩の選考ステップ

本選考

2024年10月下旬

2024年11月中旬

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内定

大学非公開 | 理系

【承諾/辞退理由の詳細】自分が求めるワークライフバランスを実現できないと思ったから。　【採用人数・倍率】不明　【内定者の採用大学・学歴】理系大学院生旧帝大が半分弱残りがその他国立　【自分以外の内定者の属性（体育会、学生団体、留学、長期インターン、ボランティアなど）】特になし

【試験科目】性格テスト　【各科目の問題数と制限時間】20分程度　【対策方法】内容は性格テストのみのため、特に対策が必要になることはなかった。

【研究内容の詳細をご記入ください。】◯◯ではレーザーを反射させるために誘電体多層膜ミラーが用いられています。これは屈折率の高い無機材料薄膜と低屈折率薄膜を基板上に交互に積層することで光の干渉により極めて高い反射率（99%以上）を生み出すことができます。特にレーザーを◯◯に向けて照射するための最も下流部にあるミラーは◯◯で発...

1人の方が「参考になった」と言っています。

【面接官の特徴（役職・肩書き・入社年次など）】人事、配属部署の課長2人、配属部署のエンジニア1人　【会場到着から選考終了までの流れ】Microsoft Teamsで実施　【質問内容】質問チーム、他人とかかわるうえで気を付けていることは何か？チームに仕事をしない人がいたらどうするか？長所・短所回答研究...

【面接官の特徴（役職・肩書き・入社年次など）】日本人1　台湾人5人　【会場到着から選考終了までの流れ】オンラインで実施　【質問内容】事前に作ったpowerpointに対しての質問。例志望動機上司と意見が合わなかったときにどうするか周りの人からどんな人といわれることが多いか学生時代に頑張ったことバイト...

【試験科目】性格診断を2種類受けました　【各科目の問題数と制限時間】30分ぐらいだと思う。　【対策方法】単純な性格診断なので、特に準備する必要はない。協調性があることを意識したくらい。

【承諾/辞退理由の詳細】他の第一志望お企業に内定をもらったから。夜勤があるのが合わなかった　【採用人数・倍率】わからないけど多いと思う　【内定者の採用大学・学歴】九州の学生が多いと思う。　【自分以外の内定者の属性（体育会、学生団体、留学、長期インターン、ボランティアなど）】院卒理系

【研究内容の詳細をご記入ください】試料にイオンをぶつけて、跳ね返ってくるまでの飛行時間を計測する装置を用い、その飛行時間のスペクトル分布から試料表面の原子や構造を特定する研究を行っています。近年デバイスの微細化が進み、表面が全体に占める面積の割合は大きくなっているため、表面物性の研究は非常に重要となります。現在研究中の○○...

【試験科目】性格検査　【各科目の問題数と制限時間】30分程度　【対策方法】一般的な性格検査のみだったので、参考書を解くといった対策は必要ないと思う。

【学生時代に最も打ち込んだことを記入してください】私が学生時代に最も打ち込んだことは、研究活動です。研究の過程で、他の研究者や教授の意見を積極的に取り入れることの重要性を痛感しました。異なる視点やアイデアを融合させることで、より良い成果を得ることができました。また、海外の学会に参加した際には、言語の壁を感じました。発表や質...

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ワンキャリアでは、Japan Advanced Semiconductor Manufacturingの2026年卒の本選考で実際に行われた面接/面談での質問内容や回答例を掲載しています。また、面接で話した志望動機や面接の雰囲気、面接官の特徴、結果通知のタイミングなど具体的な体験談も見られます。さらに、Japan Advanced Semiconductor Manufacturingの面接/リクルーター面談の通過率を上げるために、「選考ステップ」に書かれている面接における採用側の評価基準も確認しましょう。Japan Advanced Semiconductor Manufacturingの面接本番前や自己紹介・自己PR・志望動機を作る時に、高倍率な選考でも通過するようお役立てください。また「合格の秘訣」にある企業の魅力や選考全体のポイントはメーカー業界の分析やJapan Advanced Semiconductor Manufacturingの企業研究にも役立ちます。